光干涉被廣泛用于薄膜光學(xué)器件中。光學(xué)鍍膜技術(shù)的常用方法是通過真空濺射在玻璃基板上涂覆薄膜，光學(xué)鍍膜通常用于控制基板對(duì)入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需求。 為了消除光學(xué)部件表面上的反射損失并改善圖像質(zhì)量，涂覆了一層或多層透明介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜。

光學(xué)鍍膜隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)薄膜的反射率和透射率提出了不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶減反射膜的發(fā)展。 對(duì)于各種應(yīng)用需求，使用高反射膜來制造偏振反射膜，分色膜，冷光膜，干涉濾光片等。
球面鏡廠家告訴你，在對(duì)光學(xué)部件的表面進(jìn)行涂層之后，光學(xué)鍍膜在涂層上多次反射和透射，從而形成多光束干涉。 控制涂層的折射率和厚度可以獲得不同的強(qiáng)度分布。 這是干涉鍍膜的基本原理。

鍍膜的光學(xué)性質(zhì)，例如折射率，吸收率和激光損傷閾值，主要取決于鍍膜的微觀結(jié)構(gòu)。 薄膜材料，殘余氣壓和基材溫度都可能影響薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。 如果在基材表面上氣相沉積的原子的遷移率較低，則鍍膜將包含微孔。 當(dāng)薄膜暴露于潮濕空氣中時(shí)，這些孔逐漸被水蒸氣填充。如柱面鏡。

球面鏡廠家告訴你，堆積密度定義為膜的固體部分的體積與膜的總體積（包括空隙和微孔）的比率。 對(duì)于光學(xué)鍍膜，光學(xué)冷加工堆積密度通常為0.75至1.0，大多數(shù)為0.85至0.95，很少達(dá)到1.0。 光學(xué)冷加工小于1的堆積密度使得蒸發(fā)材料的折射率低于塊狀材料的折射率。